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J-GLOBAL ID：201303093669609350

化粧板および化粧板の製造方法

Inventor： 中川 裕茂 ,  松本 光貴
Applicant, Patent owner： 住友ベークライト株式会社
Agent (2)： 増田 達哉 ,  朝比 一夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012154091
Publication number (International publication number)：2013226786
Application date： Jul. 09, 2012
Publication date： Nov. 07, 2013
Summary：

【課題】植物由来の樹脂成分を主材料とし、耐久性および外観に優れた化粧板、および、かかる化粧板を効率よく製造可能な化粧板の製造方法を提供すること。【解決手段】化粧板1は、芯材層2と、芯材層2上に設けられた表面化粧層3と、が積層されてなる積層体を有している。このうち、芯材層2は、リグニン誘導体と架橋剤とを含む組成物を芯材21に含浸させた状態でリグニン誘導体を架橋してなるリグニン樹脂含浸層20を含んでおり、架橋剤として下記式(1)で表される化合物を含むものを用いる。Z-(CH2OR)m (1)[式(1)中のZはメラミン残基、尿素残基、グリコリル残基、イミダゾリジノン残基および芳香環残基のうちのいずれか1種である。また、mは2〜14の整数を表す。また、Rは独立して炭素数1〜4のアルキル基または水素原子である。]【選択図】図1

Claim (excerpt)：

表面化粧層と芯材層とが積層されてなる積層体を有する化粧板であって、 前記芯材層は、芯材と、前記芯材を覆うように設けられ、リグニン誘導体を下記式(1)で表される化合物を含む架橋剤で架橋してなるリグニン樹脂と、を含有するリグニン樹脂含浸層を有することを特徴とする化粧板。 Z-(CH2OR)m (1) [式(1)中のZはメラミン残基、尿素残基、グリコリル残基、イミダゾリジノン残基および芳香環残基のうちのいずれか1種である。また、mは2〜14の整数を表す。また、Rは独立して炭素数1〜4のアルキル基または水素原子である。ただし、-CH2ORは、メラミン残基の窒素原子、尿素残基の1級アミノ基の窒素原子、グリコリル残基の2級アミノ基の窒素原子、イミダゾリジノン残基の2級アミノ基の窒素原子および芳香環残基の芳香環の炭素原子のいずれかに直接結合している。]

IPC (1)：

B32B 27/00

FI (1)：

B32B27/00 E

F-Term (16)：

4F100AB01C ,  4F100AH04A ,  4F100AJ01A ,  4F100AK36C ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100CA02A ,  4F100DH01A ,  4F100EJ17 ,  4F100EJ82A ,  4F100GB08 ,  4F100HB00C