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J-GLOBAL ID：201402218227744755   Reference number：14A0897614

Ar-GCIBによる極浅スパッタ効果 二次イオン質量分析への応用と有機物の選択的スパッタリング

Author (1)： MORITANI KOSUKE (兵庫県大)
Material： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
Volume： 24  Issue： 8  Page： 53-57  Publication year： Aug. 10, 2014 
JST Material Number： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *molecular cluster ,  *ion beam ,  *secondary ion mass spectrometry ,  *organic substance ,  *sputtering ,  *argon ,  pollutant ,  kinetic energy ,  inorganic material ,  screening(inspection)
Semi thesaurus term： surface contaminant

JST classification (2)： Mass spectrometry  (CC03013N) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： Ar ,  スパッタ ,  二次イオン質量分析 ,  応用 ,  有機物 ,  スパッタリング