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J-GLOBAL ID：201402221306792324   Reference number：14A0094053

Fracture strength analysis of single-crystalline silicon cantilevers processed by focused ion beam

集束イオンビームにより処理された単結晶シリコンカンチレバーの破壊強度

Author (5)： TAKAHASHI Yoshimasa (Dep. of Mechanical Engineering, Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-cho, Suita-shi, Osaka 564-8680, JPN) ,  KONDO Hikaru (Dep. of Mechanical Engineering, Kansai Univ., 3-3-35 Yamate-cho, Suita-shi, Osaka 564-8680, JPN) ,  NIIMI Hironobu (JEOL Ltd., SM Business unit, 1-2 Musashino, 3-Chome, Akishima, Tokyo 196-8558, JPN) ,  NOKUO Takeshi (JEOL Ltd., SM Business unit, 1-2 Musashino, 3-Chome, Akishima, Tokyo 196-8558, JPN) ,  SUZUKI Toshiaki (JEOL Ltd., IB Business unit, 1-2 Musashino, 3-Chome, Akishima, Tokyo 196-8558, JPN)
Material： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sens Actuators A)
Volume： 206  Page： 81-87  Publication year： Feb. 01, 2014 
JST Material Number： B0345C  ISSN： 0924-4247  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *focused ion beam ,  silicon ,  *cantilever beam ,  *fracture strength ,  shearing stress ,  normal stress ,  etching ,  wet etching ,  *monocrystal silicon ,  *mechanical property ,  *strength

JST classification (2)： Material testing  (HB02020U) ,  Measurement,testing and reliability of solid-state devices  (NC03040G)

Terms in the title (4)： 集束イオンビーム ,  単結晶シリコン ,  カンチレバー ,  破壊強度