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J-GLOBAL ID：201402233397609509   Reference number：14A0955285

Formation of SiH₄ and H₂O by the dissolution of quartz in H₂ fluid under high pressure and temperature

高圧・高温下での石英の水素溶液への溶解によるSiH₄とH₂Oの生成

Author (8)： SHINOZAKI Ayako (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KAGI Hiroyuki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NOGUCHI Naoki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HIRAI Hisako (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  OHFUJI Hiroaki (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  OKADA Taku (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  NAKANO Satoshi (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  YAGI Takehiko (Ehime Univ., Ehime, JPN)
Material： American Mineralogist  (Am Mineral)
Volume： 99  Issue： 7  Page： 1265-1269  Publication year： Jul. 2014 
JST Material Number： A0384A  ISSN： 0003-004X  CODEN： AMMIAY  Document type： Article
Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (7)： 高圧 ,  石英 ,  水素 ,  溶液 ,  溶解 ,  SiH4 ,  H2O