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J-GLOBAL ID：201402234044158836   Reference number：14A0273244

Target Mode Transition for Reactive Sputtering -Effect of Gettering by Chamber Wall-

反応性スパッタリングにおけるターゲットモード変化について-容器壁によるゲッタリングの影響-

Author (3)： ABE YOSHIO (北見工業大学マテリアル工学科) ,  KAWAMURA MIDORI (北見工業大学マテリアル工学科) ,  SASAKI KATSUTAKA (北見工業大学マテリアル工学科)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 57  Issue： 1  Page： 1-8 (J-STAGE)  Publication year： 2014 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *gettering ,  *reactive sputtering ,  composite film ,  target ,  aluminum ,  number(mathematics) ,  *thin film growth ,  container ,  time dependence
Semi thesaurus term： number of atom ,  容器壁

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (51)：

• 1) A. Kinbara: Supattaringu Genshou (Sputtering Phenomena) (Univ. Tokyo Press, Tokyo, 1984) p. 120 [in Japanese].
• 2) H. Kobayashi: Supatta Hakumaku, Kiso to Ouyou (Sputter Thin Films, Basics and Applications) (Nikkan Kogyo Shinbun, Tokyo, 1993) p. 90 [in Japanese].
• 3) W. D. Westwood: Sputter Deposition (AVS, New York, 2003) p. 203, p. 260.
• 4) D. Depla and S. Mahieu: Reactive Sputter Deposition (Springer, Berlin, 2008) p. 1.
• 5) J. Heller: Thin Solid Films, 17 (1973) 163.

Terms in the title (4)： 反応性スパッタリング ,  ターゲット ,  容器壁 ,  ゲッタリング