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J-GLOBAL ID：201402245064702763   Reference number：14A0425981

Improvement of solvent affinity for graphene derivatives by solution plasma process

溶液プラズマプロセスによるグラフェン誘導体に対する溶媒親和性の改善

Author (7)： UCHINO Seiko (Saga Univ., Saga, JPN) ,  SAKAGUCHI Koichi (Saga Univ., Saga, JPN) ,  OHTAKE Asami (Saga Univ., Saga, JPN) ,  TAKISAWA Noboru (Saga Univ., Saga, JPN) ,  NAKASHIMA Tatsurou (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN) ,  ERA Masanao (Saga Univ., Saga, JPN) ,  MATSUDA Naoki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 53  Issue： 1S  Page： 01AD05.1-01AD05.4  Publication year： Jan. 2014 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma treatment ,  *carbon material ,  *affinity ,  hydrophilicity ,  dispersion ,  zeta-potential ,  *graphene ,  solution plasma processing

JST classification (1)： Techniques for samples  (BA02070O)

Reference (23)：

• C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, and J. Hone, Science 321, 385 (2008).
• A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007).
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• M. B. Prince, Phys. Rev. 93, 1204 (1954).
• V. Singh, D. Joung, L. Zhai, S. Das, S. I. Khondaker, and S. Seal, Prog. Mater. Sci. 56, 1178 (2011).

Terms in the title (6)： 溶液プラズマ ,  プロセス ,  グラフェン ,  誘導体 ,  溶媒 ,  親和性