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J-GLOBAL ID：201402263373942068   Reference number：14A0799302

Corrective finishing of extreme ultraviolet photomask blanks by precessed bonnet polisher

摂動ボンネット研磨機による極端紫外線フォトマスクブランクの補正仕上

Author (3)： BEAUCAMP Anthony (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  NAMBA Yoshiharu (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  CHARLTON Phillip (Zeeko Ltd, Leicestershire, GBR)
Material： Applied Optics  (Lasers, Photonics, and Environmental Optics)
Volume： 53  Issue： 14  Page： 3075-3080  Publication year： May. 10, 2014 
JST Material Number： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photolithography ,  vacuum ultraviolet radiation ,  process parameter ,  chemical polishing ,  wafer ,  *photomask ,  extreme ultraviolet ,  factor analysis ,  *surface finishing ,  *polishing machine ,  distortion correction ,  semiconductor process ,  machining ,  *mask
Semi thesaurus term： EUV lithography ,  *photo mask blanks

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Grinding  (QC03000R)

Terms in the title (6)： 摂動 ,  ボンネット ,  研磨機 ,  極端紫外線 ,  フォトマスクブランク ,  仕上