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J-GLOBAL ID：201402266009739604   Reference number：14A1394002

Vacuum-Free, Maskless Patterning of Ni Electrodes by Laser Reductive Sintering of NiO Nanoparticle Ink and Its Application to Transparent Conductors

NiOのナノ粒子インクのレーザ還元焼結によるNi電極の真空フリーのマークレスパターニング

Author (4)： LEE Daeho (Gachon Univ., Gyeonggi-do, KOR) ,  PAENG Dongwoo (Univ. California, California, USA) ,  PARK Hee K. (Laser Prismatics LLC, California, USA) ,  GRIGOROPOULOS Costas P. (Univ. California, California, USA)
Material： ACS Nano
Volume： 8  Issue： 10  Page： 9807-9814  Publication year： Oct. 2014 
JST Material Number： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： flexible circuit board ,  touch screen ,  tensile test ,  laser beam ,  *pattern formation ,  cw laser ,  mechanical property ,  *nano particle ,  bending test (bending) ,  surface quality ,  *nickel oxide ,  *ink ,  *sintering ,  *laser heating ,  reduction (reaction) ,  Nickel ,  Vacuum ,  *metallic thin film ,  transmissivity ,  nano-ink ,  *selective laser sintering ,  property ,  *heat treatment ,  *treatment
Semi thesaurus term： *laser sintering

JST classification (4)： Applications of lasers  (BD04100V) ,  Metallic thin films  (BK14030T) ,  Atomic and molecular clusters  (BH09030O) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (8)： NiO ,  ナノ粒子 ,  インク ,  レーザ ,  還元 ,  焼結 ,  Ni電極 ,  真空