Art

J-GLOBAL ID：201402279887019009   Reference number：14A0087927

Crossover in the photoionization processes of neon clusters with increasing EUV free-electron-laser intensity

EUV自由電子レーザ強度を高くしたときネオンクラスタの光イオン化過程のクロスオーバー

Author (32)： YASE S. (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YASE S. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  NAGAYA K. (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAGAYA K. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  MOZIGUCHI Y. (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MOZIGUCHI Y. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  YAO M. (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YAO M. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  FUKUZAWA H. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  FUKUZAWA H. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MOTOMURA K. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  MOTOMURA K. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAMADA A. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  YAMADA A. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MA Ri (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  MA Ri (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MA Ri (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  UEDA K. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  UEDA K. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SAITO N. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  SAITO N. (AIST, Tsukuba, JPN) ,  NAGASONO M. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  TOGASHI T. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  TOGASHI T. (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN) ,  TONO K. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  TONO K. (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN) ,  YABASHI M. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  ISHIKAWA T. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  OHASHI H. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  OHASHI H. (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN) ,  SENBA Y. (RIKEN, Hyogo, JPN) ,  SENBA Y. (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN)
Material： Physical Review. A. Atomic, Molecular, and Optical Physics  (Phys Rev A At Mol Opt Phys)
Volume： 88  Issue： 4,Pt.A  Page： 043203.1-043203.5  Publication year： Oct. 2013 
JST Material Number： D0323D  ISSN： 1050-2947  CODEN： PLRAAN  Document type： Article
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (8)： EUV ,  自由電子 ,  レーザ強度 ,  ネオン ,  クラスタ ,  光イオン化 ,  過程 ,  クロスオーバー