Art

J-GLOBAL ID：201402287395966331   Reference number：14A0486013

Development of Practical Technology for Si Micro/nano Wall Fabrication

実用的なマイクロ・ナノシリコンウォールの作製法の開発

Author (2)： MOTOHASHI MITSUYA (東京電機大 工) ,  NAKAJI YOSHIHISA (東京電機大 工)
Material： 東京電機大学総合研究所年報  (Annual Report. Research Institute for Science and Technology, Tokyo Denki University)
Issue： 32  Page： 203-208  Publication year： Jul. 15, 2013 
JST Material Number： L0877A  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,  *nanostructure ,  *micro structure ,  *wall ,  *electron irradiation ,  exposure (photography) ,  hydrogenfluoride (salt) ,  *anodic oxidation ,  shape control ,  nano-wall ,  servo control

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 作製法 ,  開発