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J-GLOBAL ID：201402299466496100   Reference number：14A0371550

集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(2)

Author (8)： LI N. (横浜国大 大学院) ,  HABUKA HITOSHI (横浜国大 大学院) ,  IKEDA SHIN'ICHI (ミニマルファブ技術研究組合) ,  IKEDA SHIN'ICHI (産業技術総合研) ,  ISHIDA YUKI (ミニマルファブ技術研究組合) ,  ISHIDA YUKI (産業技術総合研) ,  HARA SHIRO (ミニマルファブ技術研究組合) ,  HARA SHIRO (産業技術総合研)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 61st  Page： ROMBUNNO.19P-E14-16  Publication year： Mar. 03, 2014 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： wafer ,  *chemical vapor deposition ,  *semiconductor process ,  *evaporative apparatus ,  focusing (light) ,  infrared heating ,  heating furnace ,  *thin film growth ,  silicon compound ,  silicon chloride ,  substrate temperature ,  Trichlorosilane ,  Si wafer
Semi thesaurus term： Si wafer ,  semiconductor manufacturing equipment

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (3)： 集光 ,  赤外線加熱 ,  CVD装置