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J-GLOBAL ID：201403005527734190

テトラブロモシランからのトリブロモシランの製造方法

Inventor： 友野 和哲 ,  岡村 優樹 ,  中山 雅晴
Applicant, Patent owner： 国立大学法人山口大学
Agent (6)： 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  東海 裕作 ,  大▲高▼ とし子 ,  ▲高▼津 一也 ,  堀内 真
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012142359
Publication number (International publication number)：2014005175
Application date： Jun. 25, 2012
Publication date： Jan. 16, 2014
Summary：

【課題】テトラブロモシランを高い転換率でトリブロモシランに転換することにあり、さらには、廃シリコン再生利用のクローズドサイクルの構築に資すること。【解決手段】廃シリコン処理物と臭化水素とを反応させてトリブロモシラン及びテトラブロモシランを含むブロモシランを製造する第1工程と、第1工程で得られたブロモシランからテトラブロモシランを分離し、該テトラブロモシランと水素とを反応させてトリブロモシランに転換する第2工程と、第2工程で得られたトリブロモシランからシリコンを製造する第3工程とを備えた方法であって、前記第2工程における反応を、炭化ケイ素又はダイヤモンドの存在下で行うシリコンからのシリコン回収方法である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

炭化ケイ素又はダイヤモンドの存在下で、テトラブロモシラン及び水素を反応させることを特徴とするトリブロモシランの製造方法。

IPC (3)：

C01B 33/107 ,  C01B 33/03 ,  C01B 33/039

FI (3)：

C01B33/107 Z ,  C01B33/03 ,  C01B33/039

F-Term (18)：

4G072AA15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH10 ,  4G072JJ01 ,  4G072JJ13 ,  4G072KK09 ,  4G072KK20 ,  4G072LL03 ,  4G072LL06 ,  4G072MM03 ,  4G072RR03 ,  4G072RR04 ,  4G072RR11 ,  4G072RR12 ,  4G072RR16 ,  4G072UU01 ,  4G072UU02