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J-GLOBAL ID:201403008617594044

排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木内 光春
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012274123
Publication number (International publication number):2014117648
Application date: Dec. 14, 2012
Publication date: Jun. 30, 2014
Summary:
【課題】フィルタを破過状態に至る前に再生することによって排ガス処理装置の信頼を高め、交換コストを削減する。【解決手段】排ガス処理装置1は、排ガス流路10にオゾンガス供給部2とフィルタ3とを備える。フィルタ3は、排ガスに含まれる有機物の吸着処理を行う吸着部であり、オゾンガス供給部2より供給されたオゾンガスを分解することによって活性種を発生させ、その活性種を用いて吸着部に吸着された有機物の分解処理を行う分解部である。そして、排ガス処理装置1はさらに切換制御部としての制御部7を備え、この制御部7が、フィルタ3における吸着処理と分解処理の双方を行う工程と、分解部の分解処理のみを行う工程とを切り換える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
排ガス流路にオゾンガスを供給するオゾンガス供給部と、 前記排ガス流路に設けられ、排ガスに含まれる有機物の吸着処理を行う吸着部と、 前記オゾンガス供給部より供給されたオゾンガスを分解して活性種を発生させ、当該活性種を用いて前記吸着部に吸着された有機物の分解処理を行う分解部と、 前記吸着部の吸着処理と前記分解部の分解処理の双方を行う工程と、前記分解部の分解処理のみを行う工程とを切り換える切換制御部と、を備えることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (4):
B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/86
FI (4):
B01D53/34 116A ,  B01D53/34 ,  B01D53/36 F ,  B01D53/36 G
F-Term (26):
4D002AA00 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA05 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002EA07 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB20 ,  4D048AA12 ,  4D048AB03 ,  4D048AC07 ,  4D048BB08 ,  4D048CC25 ,  4D048CC32 ,  4D048CC36 ,  4D048CC38 ,  4D048CC61 ,  4D048CD01 ,  4D048DA01 ,  4D048DA02 ,  4D048DA05 ,  4D048DA08 ,  4D048DA20
Patent cited by the Patent:
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