Pat

J-GLOBAL ID：201403008977139135

らせん構造が制御された合成高分子、及びそれからなるホストゲスト化合物、並びにそれらの製造方法

Inventor： 河内 岳大 ,  熊木 治郎 ,  八島 栄次
Applicant, Patent owner： 独立行政法人科学技術振興機構
Agent (1)： 佐伯 憲生
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2009513980
Patent number：5392844
Application date： Mar. 18, 2008
Claim (excerpt)：

【請求項1】 シンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマー、及びキラル化合物を溶媒に溶解させ、次いでこれを冷却又は濃縮して生成する固形分を分離することからなる、らせん構造の巻き方向が制御されたシンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマーらせん高分子化合物を製造する方法。

IPC (2)：

C08F 20/18 ( 200 6.01) ,  C01B 31/02 ( 200 6.01)

FI (2)：

C08F 20/18 ,  C01B 31/02 101 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• シリコーン樹脂シートの打ち抜き加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-085178   Applicant：新日鐵化学株式会社, 株式会社ダイテックス

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• Structural change of st-PMMA on drawing, absorption and desorption of solvents.

Cited by examiner (1)

• Structural change of st-PMMA on drawing, absorption and desorption of solvents.