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J-GLOBAL ID：201403012341814301

レーザ射出装置及びレーザ射出装置の製造方法

Inventor： 藤田 五郎 ,  岡 美智雄 ,  吉田 浩 ,  前田 史貞 ,  植田 充紀 ,  田中 健二
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (4)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司 ,  松本 一騎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012285027
Publication number (International publication number)：2014127651
Application date： Dec. 27, 2012
Publication date： Jul. 07, 2014
Summary：

【課題】より安定的な出力を得ることを可能とする。【解決手段】所定の波長の光を射出する半導体レーザと、前記半導体レーザの後段に設けられ、前記半導体レーザからの射出光を反射することにより前記半導体レーザとの間で共振構造を構成するとともに、前記射出光の一部が出力光として外部に取り出されるグレーティングと、前記半導体レーザの光射出面と前記グレーティングの反射面とが共焦点となるように、前記半導体レーザと前記グレーティングとの間に少なくとも1つ設けられるシリンドリカルレンズと、を備えるレーザ射出装置を提供する。【選択図】図3B

Claim (excerpt)：

所定の波長の光を射出する半導体レーザと、 前記半導体レーザの後段に設けられ、前記半導体レーザからの射出光を反射することにより前記半導体レーザとの間で共振構造を構成するとともに、前記射出光の一部が出力光として外部に取り出されるグレーティングと、 前記半導体レーザの光射出面と前記グレーティングの反射面とが共焦点となるように、前記半導体レーザと前記グレーティングとの間に少なくとも1つ設けられるシリンドリカルレンズと、 を備えるレーザ射出装置。

IPC (1)：

H01S 5/14

FI (1)：

H01S5/14

F-Term (6)：

5F173AB34 ,  5F173AL04 ,  5F173AR06 ,  5F173AR13 ,  5F173MF39 ,  5F173SA09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• レーザ光源装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-246711   Applicant：シャープ株式会社
• 光学式変位検出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-310553   Applicant：株式会社リコー
• 外部共振器型の波長可変光源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-186400   Applicant：横河電機株式会社
• エキシマレ-ザ加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-040726   Applicant：松下技研株式会社
• 外部共振器型波長可変光源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-314100   Applicant：横河電機株式会社
• 光源装置、光学ピックアップ、記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-120501   Applicant：ソニー株式会社
• 特開平2-037794
  
• レーザ加工装置およびレーザ加工方法およびこの加工方法による光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-066314   Applicant：三菱電機株式会社