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J-GLOBAL ID:201403013289227660
多孔質膜積層体
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
的場 基憲
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2008070945
Publication number (International publication number):2009229483
Patent number:5370981
Application date: Mar. 19, 2008
Publication date: Oct. 08, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 多孔質膜を基板上に少なくとも1層積層してなる多孔質膜積層体であって、
上記多孔質膜が、無機酸化物あるいは有機修飾無機酸化物、有機ポリマー、反応促進剤から成り、膜厚方向に屈折率の傾斜構造を有し、
上記反応促進剤がコバルト錯体であり、その含有量が1mol%以上であることを特徴とする多孔質膜積層体。
IPC (4):
G02B 1/11 ( 200 6.01)
, B32B 7/02 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
, C03C 17/28 ( 200 6.01)
FI (4):
G02B 1/10 ZNM A
, B32B 7/02 103
, G02F 1/133
, C03C 17/28 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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多孔性シリカ膜、それを有する積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-185552
Applicant:三菱化学株式会社
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反射防止膜の形成方法
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2006311598
Applicant:日立化成工業株式会社, 三菱電機株式会社
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