合成ガス製造用触媒、該触媒の再生方法、及び合成ガスの製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013096341
Publication number (International publication number)：2014217793
Application date： May. 01, 2013
Publication date： Nov. 20, 2014
Summary：

【課題】ドライリフォーミング法による合成ガスの製造において、炭素質が析出しても、効果的に再生でき、かつ付帯設備の必要のない、触媒の再生方法及び合成ガスの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】下記一般式(1)で表される複合酸化物に金属を担持させた触媒。 X1xX2yMnzOδ ・・・(1)(前記一般式(1)において、X1は周期表第2族元素を表し、X2は周期表第3族元素、第5族元素、及び第13族元素から選ばれるいずれかの元素を表し、x、y、及びzは複合酸化物中に含まれるX1、X2、及びMn原子のモル比をそれぞれ表し、下記式(2)〜(5)を満たし、δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。) 0.1 ≦ x ≦ 0.9 ・・・(2) 0.1 ≦ y ≦ 0.9 ・・・(3) 0.1 ≦ z ≦ 0.9 ・・・(4) x+y+z = 1 ・・・(5)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

炭化水素を含む原料ガスと二酸化炭素とを反応させ、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造するために用いられる下記一般式(1)で表される複合酸化物に金属を担持させた触媒。 X1xX2yMnzOδ ・・・(1) (前記一般式(1)において、X1は周期表第2族元素を表し、X2は周期表第3族元素、第5族元素、及び第13族元素から選ばれるいずれかの元素を表し、x、y、及びzは複合酸化物中に含まれるX1、X2、及びMn原子のモル比をそれぞれ表し、下記式(2)〜(5)を満たし、δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。) 0.1 ≦ x ≦ 0.9 ・・・(2) 0.1 ≦ y ≦ 0.9 ・・・(3) 0.1 ≦ z ≦ 0.9 ・・・(4) x+y+z = 1 ・・・(5)

IPC (5)：

B01J 23/889 , B01J 23/94 , B01J 38/04 , C01B 3/38 , C01B 31/18

FI (5)：

B01J23/84 311M , B01J23/94 M , B01J38/04 Z , C01B3/38 , C01B31/18 A

F-Term (44)：

4G140EA03 , 4G140EA05 , 4G140EC01 , 4G140EC02 , 4G146JA01 , 4G146JB02 , 4G146JB04 , 4G146JC21 , 4G146JC22 , 4G146JC24 , 4G169AA01 , 4G169AA03 , 4G169AA10 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA06A , 4G169BA06B , 4G169BA21C , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BC08A , 4G169BC10A , 4G169BC10B , 4G169BC15A , 4G169BC16A , 4G169BC16B , 4G169BC38A , 4G169BC53A , 4G169BC62A , 4G169BC62B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BD02C , 4G169BD04C , 4G169BE01C , 4G169CB81 , 4G169CC04 , 4G169DA06 , 4G169EA04Y , 4G169EB18Y , 4G169FC07 , 4G169FC08 , 4G169GA02 , 4G169GA16

Return to Previous Page