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J-GLOBAL ID:201403024186046880

電界洗浄方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 福田 賢三 ,  福田 伸一 ,  加藤 恭介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014009634
Publication number (International publication number):2014160061
Application date: Jan. 22, 2014
Publication date: Sep. 04, 2014
Summary:
【課題】1次・2次抗原抗体反応工程間やその前後の工程に存在する洗浄工程を迅速化及び自動化することができる電界洗浄方法、電界洗浄装置、それを用いた電界免疫組織染色方法、電界免疫組織染色装置を提案する。【解決手段】本発明の電界洗浄方法は、下部電極10上に配置した、ガラスプレート1上に形成した液滴2の反応場に、貫通穴3を有する板状電極又は環状電極4を上方から臨ませ、印加電界強度の主電圧としてプラス側に0.4〜2.0kV/mm、これにオフセット電界強度0.15〜1.0kV/mmを加え、更に周波数0.1〜800Hzの範囲の交流電圧を印加することで、プラス側に偏った繰り返し方形波を生成し、発生する電界による撹拌現象を用いながら電界洗浄を行う方法であって、板状電極又は環状電極4の貫通穴3から液滴反応場2へ排出管5を挿入して試薬溶液6を排出する工程と、貫通穴3から液滴反応場2へ注入管7を挿入して洗浄液8を注入する工程と、を行うことで、液滴に浮遊する非特異反応物質を排出することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
抗原と抗体とを反応させるために基板上に形成した反応場と、 前記反応場を挟むように上下に形成された上側電極と下側電極とを備え、 前記反応場で抗原に1次抗体を含む液滴を添加して抗原と1次抗体とを反応させる1次抗原抗体反応工程と、 前記1次抗原抗体反応工程の後に2次抗体を含む液滴を添加して2次抗体をさらに反応させる2次抗原抗体反応工程と、 前記上側電極と下側電極との間に所定の電界を与えることにより前記反応場に形成された液滴を撹拌する工程と、 前記1次抗原抗体反応工程と2次抗原抗体反応工程との後に、それぞれ未反応抗体を除去する未反応抗体洗浄工程と、 を有することを特徴とする電界洗浄方法。
IPC (3):
G01N 33/48 ,  G01N 33/53 ,  G01N 1/38
FI (3):
G01N33/48 P ,  G01N33/53 Y ,  G01N1/28 Y
F-Term (6):
2G045AA24 ,  2G045BB14 ,  2G045BB24 ,  2G052AA33 ,  2G052FA09 ,  2G052FC09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
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