照射計画作成装置および照射計画作成プログラム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：磯野道造 , 多田悦夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012521364
Patent number：5521225
Application date： Apr. 25, 2011
Claim (excerpt)：

【請求項1】多門照射により強度を変調させつつペンシルビームをスキャンさせてスポット毎に重ね合わせ、放射線の照射を行う照射部位および放射線の照射を行うべきでない非照射部位を含んでなる照射対象に対して、予め入力された線量処方となるように線量分布を形成させるための照射計画を作成するにあたり、入力されたペンシルビームの重みについて、予め入力された前記照射部位に対しては、予め入力された目標線量に対して必要十分な線量が与えられるという第1条件と、予め入力された前記非照射部位に対しては、予め入力された線量制限以下に抑えるという第2条件と、を含む逐次近似繰り返し演算を行って評価指標値を導出し、当該評価指標値に基づいて前記照射計画を作成する照射計画作成装置であって、前記逐次近似繰り返し演算を行う逐次近似繰り返し演算手段が、前記第1条件および前記第2条件に加えてさらに、予め入力された照射方向から前記照射対象に与えられる前記線量分布の勾配を抑制するという第3条件を用いて前記評価指標値を導出することを特徴とする照射計画作成装置。

IPC (1)：

A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (1)：

A61N 5/10 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

3次元医用画像の描画
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2009-502961 Applicant：アキュレイ・インコーポレーテッド
逆方向治療計画法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2008-553731 Applicant：ドイチェスクレブスフォルシュングスツェントルムシュティフトゥングデスエッフェントリッヒェンレヒツ
照射計画方法、装置、粒子線照射システム、及び、これらに用いるコンピュータプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-322939 Applicant：独立行政法人放射線医学総合研究所

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