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J-GLOBAL ID:201403032551581041

合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013076347
Publication number (International publication number):2014200705
Application date: Apr. 01, 2013
Publication date: Oct. 27, 2014
Summary:
【課題】ドライリフォーミング法による合成ガスの製造において、高い触媒活性を有し、かつ、炭素質が析出しても、その触媒活性が低下しないような触媒、および長時間高い製造効率を保つ製造方法を提供すること【解決手段】炭化水素を含む原料ガスと二酸化炭素を反応させ、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する合成ガス製造用触媒であって、前記触媒が、下記一般式(1)で表される複合酸化物にNiを担持させたものであることを特徴とする合成ガス製造用触媒。 MgxAlyMnzOδ ・・・(1)(前記一般式(1)において、x、y、及びzはそれぞれ、複合酸化物中に含まれるマグネシウム、アルミニウム、マンガン原子のモル比を表し、かつ下記式(2)〜(5)を満たす。 0.01≦x≦0.99 ・・・(2) 0.01≦y≦0.99 ・・・(3) z≧0.1 ・・・(4) x+y+z=1.0 ・・・(5)δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
炭化水素を含む原料ガスと二酸化炭素を反応させ、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する合成ガス製造用触媒であって、 前記触媒が、下記一般式(1)で表される複合酸化物にNiを担持させたものであることを特徴とする合成ガス製造用触媒。 MgxAlyMnzOδ ・・・(1) (前記一般式(1)において、x、y、zはそれぞれ、複合酸化物中に含まれるマグネシウム、アルミニウム、マンガン原子のモル比を表し、かつ下記式(2)〜(5)を満たす。 0.01≦x≦0.99 ・・・(2) 0.01≦y≦0.99 ・・・(3) z≧0.1 ・・・(4) x+y+z=1.0 ・・・(5) δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。)
IPC (3):
B01J 23/889 ,  C01B 3/40 ,  C01B 31/18
FI (3):
B01J23/84 311M ,  C01B3/40 ,  C01B31/18 A
F-Term (23):
4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EC01 ,  4G140EC02 ,  4G140EC05 ,  4G146JA01 ,  4G146JB02 ,  4G146JB04 ,  4G146JC22 ,  4G169AA03 ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC10A ,  4G169BC10B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CB81 ,  4G169CC40 ,  4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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