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J-GLOBAL ID:201403035417942282

面光源装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009065194
Publication number (International publication number):2010218920
Patent number:5540371
Application date: Mar. 17, 2009
Publication date: Sep. 30, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】 底面と対向する側に矩形状の開口部を有し、内面が反射面とされたハウジングと、該ハウジングに収容され、各々の軸方向が前記矩形上の開口部の一辺と平行となるように、かつ互いの軸方向中央が同一直線上に並ぶように、前記底面と平行な同一平面上に配列されたn本(但し、nは2以上の整数)の線状光源と、該ハウジングの開口部を塞ぐように、かつ前記各線状光源からの距離dが略等距離となるように配置された光学ユニットとを備え、 前記光学ユニットは、均一光拡散層と、該均一光拡散層の線状光源と反対側に配置され、光入射面に対して斜めから入射した光を、光出射面と直交する方向に立ち上げて出射させる集光機能を有する集光機能層と、前記均一光拡散層の何れか一方の面側であって、前記集光機能層よりも線状光源側に設けられたパターン光拡散層とを有し、 前記集光機能層は、断面三角形のプリズム条列を有するプリズムシート、または底面が略円形であり、断面が略半球状であるマイクロレンズが、互いにほぼ接する間隔で、ランダムに二次元配置されたマイクロレンズシートであり、 下式(5)で定義される調整値Cm(但し、mは1≦m≦nである整数)に占める、Cm≦0%を満たす調整値Cmの割合が60%以上であり、かつ、総ての調整値Cmが-30%以上であると共に、調整値Cmを平均した平均調整値Cが、-30≦C<0%であることを特徴とする面光源装置。 (線状光源Lm、座標Xm) 光出射面において、各線状光源とその軸方向中央で直交する直線を座標軸Xとする。 最も外側に配置される線状光源の一方をL1とし、該線状光源L1から数えてm番目に配置される線状光源をLm、線状光源Lmの断面中心に対応する座標軸X上の位置を座標Xmとする。 (座標Xm-) mの値に応じて、下式(1a)又は下式(1b)により座標Xm-を定義する。 m=1の場合、 座標Xm-=座標[(3X1-X2)/2] ・・・式(1a) m≠1の場合 座標Xm-=座標[(Xm-1+Xm)/2] ・・・式(1b) (座標Xm+) mの値に応じて、下式(2a)又は下式(2b)により座標Xm+を定義する。 m=nの場合、 座標Xm+=座標[(3Xn-Xn-1)/2] ・・・式(2a) m≠nの場合 座標Xm+=座標[(Xm+Xm+1)/2] ・・・式(2b) (調整前近似曲線A’m) 前記光学ユニットに代えて前記均一光拡散層のみを配置した時の、該均一光拡散層から1000mm離間した位置に配置した輝度計で測定した座標Xm-から座標Xm+までの輝度分布Amを最小二乗法で二次関数に近似した曲線を調整前近似曲線A’mとする。 (調整前振幅Sm) 前記調整前近似曲線A’m上の、座標Xmにおける値をAm0、座標Xm-における値をAm-、座標Xm+における値をAm+として、下式(3)により調整前振幅Smを定義する。 Sm=Am0-(Am-+Am+)/2 ・・・式(3) (調整後近似曲線B’m) 前記光学ユニットに代えて前記均一光拡散層及びパターン光拡散層のみを配置した時の、該均一光拡散層から1000mm離間した位置に配置した輝度計で測定した各座標Xm-から座標Xm+までの輝度分布Bmを最小二乗法で二次関数に近似した曲線を調整後近似曲線B’mとする。 (調整後振幅Tm) 前記調整後近似曲線B’m上の、座標Xmにおける値をBm0、座標Xm-における値をBm-、座標Xm+における値をBm+として、下式(4)により調整後振幅Tmを定義する。 Tm=Bm0-(Bm-+Bm+)/2 ・・・式(4) (調整値Cm) 前記調整後振幅Tm及び調整前振幅Smから、下式(5)により調整値Cmを定義する。 Cm=Tm/Sm×100(%) ・・・式(5)
IPC (7):
F21S 2/00 ( 200 6.01) ,  F21V 3/00 ( 200 6.01) ,  F21V 3/04 ( 200 6.01) ,  G02B 5/04 ( 200 6.01) ,  G02B 5/02 ( 200 6.01) ,  G02B 3/00 ( 200 6.01) ,  F21Y 103/00 ( 200 6.01)
FI (7):
F21S 2/00 481 ,  F21V 3/00 530 ,  F21V 3/04 370 ,  G02B 5/04 A ,  G02B 5/02 B ,  G02B 3/00 A ,  F21Y 103:00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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