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J-GLOBAL ID：201403043820744752

位置検出システム、インプリント装置、デバイス製造方法、および位置検出方法

Inventor： 岩井 俊樹 ,  三島 和彦 ,  林 望
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012128133
Publication number (International publication number)：2013254780
Application date： Jun. 05, 2012
Publication date： Dec. 19, 2013
Summary：

【課題】 非計測方向に周期を持つ回折格子を用いて2つの物体の相対的な位置を求める方法であって、相対的な位置を精度よく求めることができる位置検出システムを提供する。【解決手段】 本発明の位置検出システムは、第1方向に周期を有する第1回折格子と、第1回折格子の第1方向に関する周期と異なる周期を第1方向に有し、第1方向と異なる第2方向に周期を有する第2回折格子と、を照明する照明光学系と、第1回折格子と第2回折格子とから光による干渉パターンを検出する検出光学系と、制御部と、を備え、第1回折格子と第2回折格子との第1方向における相対的な位置を検出する位置検出システムであって、検出光学系で検出された第1方向に周期的に変化する干渉パターンのうち、第1方向に偶数周期で、第2方向に制限された検出領域を用いて相対的な位置を求めることを特徴とする。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

第1方向に周期を有する第1回折格子と、前記第1回折格子の第1方向に関する周期と異なる周期を第1方向に有し、第1方向と異なる第2方向に周期を有する第2回折格子と、を照明する照明光学系と、 前記照明光学系に照明された前記第1回折格子と前記第2回折格子とから光による干渉パターンを検出する検出光学系と、 制御部と、を備え、 前記検出光学系の検出結果から、前記第1回折格子と前記第2回折格子との第1方向における相対的な位置を検出する位置検出システムであって、 前記制御部は、前記検出光学系で検出された光が形成する前記第1方向に周期的に変化する前記干渉パターンのうち、第1方向に偶数周期で、第2方向に制限された検出領域を用いて前記第1回折格子と前記第2回折格子の第1方向における相対的な位置を求めることを特徴とする位置検出システム。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  B29C 59/02

FI (4)：

H01L21/30 502M ,  H01L21/30 502D ,  G03F9/00 Z ,  B29C59/02 Z

F-Term (21)：

2H097KA20 ,  2H097KA29 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AP06 ,  4F209AP20 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146EA07 ,  5F146EA10 ,  5F146FC04