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J-GLOBAL ID:201403049609338673

光合成の予測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 一色国際特許業務法人
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2010073449
Publication number (International publication number):2011200208
Patent number:5589492
Application date: Mar. 26, 2010
Publication date: Oct. 13, 2011
Claim (excerpt):
【請求項1】 芝草群落における光合成の予測方法であって、 前記芝草群落周辺の気象データを取得する気象データ取得ステップと、 前記芝草群落の形状、葉の特性、及び土壌の特性に関する各データを定める芝草群落環境設定ステップと、 前記芝草群落の地面以上の部分を鉛直方向に複数の層に分け、前記気象データ取得ステップ及び前記芝草群落環境設定ステップの各データに基づいて、前記芝草群落の各層の光の放射環境を算出する放射環境算出ステップと、 各層の葉温及び地面温度が前記放射環境に応じた温度になるときの葉の気孔コンダクタンス、葉面境界層コンダクタンス、顕熱フラックス、及び潜熱フラックスを層毎に算出する層要素算出ステップと、 前記放射環境算出ステップの算出結果、及び、前記層要素算出ステップの算出結果に基づいて、各層の光合成量を算出する光合成量算出ステップと、 を有し、 前記光合成量算出ステップでは、二酸化炭素の量で決定される前記光合成量と、光の量で決定される前記光合成量のうちの小さい方が算出されることを特徴とする光合成の予測方法。
IPC (2):
A01G 7/00 ( 200 6.01) ,  A01G 1/00 ( 200 6.01)
FI (2):
A01G 7/00 603 ,  A01G 1/00 301 C
Article cited by the Patent:
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