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J-GLOBAL ID:201403054447237359
多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法、吸蔵材料及び光機能材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (5):
棚井 澄雄
, ▲廣▼保 直純
, 荒 則彦
, 加藤 広之
, 五十嵐 光永
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012192210
Publication number (International publication number):2014047178
Application date: Aug. 31, 2012
Publication date: Mar. 17, 2014
Summary:
【課題】新規な多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法、吸蔵材料、光機能材料の提供。【解決手段】2族〜13族から選択される1種の金属原子又はイオンと、一般式(1)で表される配位子と、を含む多孔性金属錯体。(P:(A),(B)からなる群から選ばれる1つの基、または(A),(B)からなる群から選ばれる2以上5以下の基が連結してなる2価の基。少なくとも1つのPは、(A)から選ばれる1つの基と(B)から選ばれる1つの基とを含む。(A)2価の芳香族複素環基(B)2価の芳香族炭化水素基Q:m価の芳香族炭化水素基。R:-CO2-、-SO3-、-OPO32-、-OPO3H-、-C≡N、ピリジル基、イミダゾリル基、イミダゾレート基。m:3〜6、n:0,1。nの少なくとも1つは1。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
周期表第2族〜第13族から選択される1種の金属原子又はそのイオンと、下記一般式(1)で表され、金属原子又はそのイオンに対して配位結合を形成可能な非共有電子対を有する配位基を備えた配位子と、を含み、前記金属原子又はそのイオンと前記配位基との配位結合を有する多孔性金属錯体。
IPC (3):
C07D 333/24
, C07D 333/40
, A61K 47/22
FI (3):
C07D333/24
, C07D333/40
, A61K47/22
F-Term (5):
4C023EA15
, 4C023HA02
, 4C076DD65
, 4C076FF02
, 4C076FF03
Patent cited by the Patent: