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J-GLOBAL ID:201403058650616697

三次元測定システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人樹之下知的財産事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013076888
Publication number (International publication number):2014202521
Application date: Apr. 02, 2013
Publication date: Oct. 27, 2014
Summary:
【課題】測定精度の向上およびスループットの向上が可能な三次元測定システムを提供。【解決手段】ラインセンサ25A〜25Cの集光領域内において、ラインセンサに対して相対位置不変に配置された空気揺らぎ算出用点光源50と、この光源からの光に基づいてラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置を記憶した記憶部53とを備える。プローブ演算部32は、ワーク測定時において、空気揺らぎ算出用点光源からの光に基づいてラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置と記憶部に記憶された輝度重心位置との差分を空気揺らぎ量として算出し、測定用光源(LED1〜9)からの光に基づいてラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置に対して、空気揺らぎ量をシフトさせて補正輝度重心位置を算出し、この補正輝度重心位置から測定用点光源の座標を演算する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
任意の位置に移動可能な測定用点光源と、前記測定用点光源からの光を受光し、該測定用点光源の位置を検出する位置検出装置とを備え、 前記位置検出装置は、互いに離間して配置され前記測定用点光源からの光を第1軸上に集光する一対の第1光学系と、この各第1光学系によって前記第1軸上に集光された光を受光し第1軸上における輝度分布を表す第1輝度分布信号を出力する一対の第1ラインセンサと、前記測定用点光源からの光を前記第1軸とは直交する第2軸上に集光する第2光学系と、この第2光学系によって前記第2軸上に集光された光を受光し第2軸上における輝度分布を表す第2輝度分布信号を出力する第2ラインセンサ、前記第1輝度分布信号および第2輝度分布信号に基づいて前記測定用点光源の座標を演算する位置演算部を含んで構成された三次元測定システムにおいて、 前記第1ラインセンサおよび第2ラインセンサの集光領域内において、前記第1ラインセンサおよび第2ラインセンサに対して相対位置不変に配置された空気揺らぎ算出用点光源と、 ワーク測定前において、前記空気揺らぎ算出用点光源からの光に基づいて前記第1ラインセンサおよび第2ラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置を記憶した記憶部とを備え、 前記位置演算部は、 ワーク測定時において、前記空気揺らぎ算出用点光源からの光に基づいて前記第1ラインセンサおよび第2ラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置と前記記憶部に記憶された輝度重心位置との差分を空気揺らぎ量として算出し、 前記測定用光源からの光に基づいて前記第1ラインセンサおよび第2ラインセンサで検出された輝度分布信号の輝度重心位置に対して、前記空気揺らぎ量をシフトさせて補正輝度重心位置を算出し、 この補正輝度重心位置から三角測量法を用いて前記測定用点光源の座標を演算する、 ことを特徴とする三次元測定システム。
IPC (2):
G01B 11/00 ,  G01B 21/00
FI (2):
G01B11/00 H ,  G01B21/00 E
F-Term (33):
2F065AA04 ,  2F065AA06 ,  2F065AA17 ,  2F065BB05 ,  2F065BB29 ,  2F065CC14 ,  2F065DD06 ,  2F065DD11 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065FF63 ,  2F065GG07 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL08 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR09 ,  2F065UU02 ,  2F069AA04 ,  2F069AA14 ,  2F069AA66 ,  2F069GG01 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG62 ,  2F069GG63 ,  2F069GG65 ,  2F069HH01 ,  2F069JJ08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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