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J-GLOBAL ID:201403058691948041
光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012207698
Publication number (International publication number):2014063863
Application date: Sep. 21, 2012
Publication date: Apr. 10, 2014
Summary:
【課題】 塩素系ガスに対するエッチング耐性に優れ、かつ金型を押し当てた場合の転写性が良好で、かつ基材との密着性のよい光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。さらには、長期間保存安定性のよい光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。【解決手段】 光硬化性ナノインプリント用組成物は、(A)特定の金属アルコキシド、(B)(メタ)アクリル基を有する酸性基含有重合性単量体、(C)(メタ)アクリル基を有する酸性基非含有重合性単量体、(D)光重合開始剤を含む態様のものである。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(A)下記式(1)
IPC (5):
H01L 21/027
, C08F 2/44
, H01L 21/306
, B29C 59/02
, B29C 33/38
FI (5):
H01L21/30 502D
, C08F2/44 Z
, H01L21/302 105A
, B29C59/02 Z
, B29C33/38
F-Term (57):
4F202AA44
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AJ06
, 4F202AM32
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD02
, 4F202CD24
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AM32
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PG01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 4J011PA49
, 4J011PA50
, 4J011PB40
, 4J011PC02
, 4J011PC08
, 4J011QA03
, 4J011QA07
, 4J011QA12
, 4J011QA13
, 4J011QA22
, 4J011QA42
, 4J011QA50
, 4J011SA02
, 4J011SA05
, 4J011SA15
, 4J011SA16
, 4J011SA20
, 4J011SA54
, 4J011SA58
, 4J011SA61
, 4J011SA78
, 4J011SA83
, 4J011SA84
, 4J011UA01
, 4J011UA02
, 4J011WA01
, 5F004AA09
, 5F004DA04
, 5F004DB14
, 5F004EA03
, 5F004EB08
, 5F146AA32
, 5F146AA33
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