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J-GLOBAL ID：201403060993405246

殺菌方法

Inventor： 賀来 満夫 ,  金光 敬二 ,  國島 広之 ,  神戸 正純 ,  三浦 邦夫
Applicant, Patent owner： 株式会社 東北テクノアーチ ,  新日本空調株式会社
Agent (1)： 永井 義久
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006096751
Publication number (International publication number)：2007268402
Patent number：5496441
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】 水利用施設のレジオネラ属菌の殺菌において、 液体塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム(高度さらし粉を含む)の群から選ばれた塩素殺菌剤を用いて、薬注装置により、対象とする水系統に注入することにより、残留塩素濃度(遊離残留塩素と結合性残留塩素との合計量の濃度)を0.1mg/l〜1mg/lとするとともに、 この残留塩素に、銀イオンを共存させ、銅イオンは共存させない、 さらに、銀イオンの発生に銀型ゼオライトを使用することを特徴とする殺菌方法。

IPC (6)：

C02F 1/50 ( 200 6.01) ,  A01P 3/00 ( 200 6.01) ,  A01N 59/16 ( 200 6.01) ,  A01N 59/08 ( 200 6.01) ,  F24F 5/00 ( 200 6.01) ,  F28F 19/01 ( 200 6.01)

FI (16)：

C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 B ,  C02F 1/50 520 K ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 E ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 540 D ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 540 F ,  A01P 3/00 ,  A01N 59/16 A ,  A01N 59/08 A ,  F24F 5/00 101 Z ,  F28F 19/00 501 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

• 貯水槽の水の循環式消毒方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-277517   Applicant：井上直史
• 温浴器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-181785   Applicant：株式会社ブリヂストン
• 環境水中に生息する細菌の殺菌剤及び殺菌法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-133489   Applicant：学校法人北里学園, セラミック通商株式会社
• 水の電解消毒方法及び電解消毒装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-093308   Applicant：宮崎智好, 宮崎章子
• 水殺菌装置および水殺菌方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-117083   Applicant：江口日出雄
• 抗菌性固形物並びにその製造方法及びその利用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-198259   Applicant：東陶機器株式会社

Cited by examiner (2)

• 貯水槽の水の循環式消毒方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-277517   Applicant：井上直史
• 水の電解消毒方法及び電解消毒装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-093308   Applicant：宮崎智好, 宮崎章子