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J-GLOBAL ID：201403061021457196
グラフェン薄膜とその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011528909
Patent number：5641484
Application date： Aug. 31, 2010
Claim (excerpt)：
【請求項1】 グラフェン薄膜が多数のグラフェンドメインから構成され、各ドメインの面積が0.000001μm2〜100000mm2であり、かつドメイン内の六員環の方位がグラフェン薄膜全体にわたって平均的に同一方向を向いていることを特徴とするグラフェン薄膜。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
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単結晶グラフェンシートおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2008-318418
Applicant：三星電子株式会社
Article cited by the Patent：
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