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J-GLOBAL ID：201403063247482528

欠陥観察方法および欠陥観察装置

Inventor： 原田 実 ,  高木 裕治 ,  中垣 亮 ,  平井 大博 ,  木附 洋彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (3)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013014990
Publication number (International publication number)：2014145694
Application date： Jan. 30, 2013
Publication date： Aug. 14, 2014
Summary：

【課題】 高精度な識別器を機械学習により構成するためには,「欠陥」および「ニュイサンス」のラベル付けがされた欠陥候補を多数教示する必要がある。しかし,濃淡比較検査により検出された欠陥候補についてユーザが「欠陥」および「ニュイサンス」のラベル付けを行うのは多大な労力を要し,現実的ではない。【解決手段】 検査装置からの欠陥情報に基づき被検査対象物を撮像して、欠陥画像と該欠陥画像に対応する参照画像とを得る撮像工程と、前記撮像工程にて撮像した該欠陥画像と該参照画像とにより得た第一の特徴量分布と、該参照画像により得た第二の特徴量分布とを用いて、欠陥抽出に用いる第一のパラメータを決定するパラメータ決定工程と、前記パラメータ決定工程にて決定した該第一のパラメータを用いて観察を行う観察工程と、を備える欠陥観察方法である。【選択図】 図7

Claim (excerpt)：

検査装置からの欠陥情報に基づき被検査対象物を撮像して、欠陥画像と該欠陥画像に対応する参照画像とを得る撮像工程と、 前記撮像工程にて撮像した該欠陥画像と該参照画像とにより得た第一の特徴量分布と、該参照画像により得た第二の特徴量分布とを用いて、欠陥抽出に用いる第一のパラメータを決定するパラメータ決定工程と、 前記パラメータ決定工程にて決定した該第一のパラメータを用いて観察を行う観察工程と、を備える欠陥観察方法。

IPC (2)：

G01N 23/225 ,  G01N 21/956

FI (2)：

G01N23/225 ,  G01N21/956 A

F-Term (24)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA18 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA05 ,  2G001HA07 ,  2G001JA07 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC01 ,  2G051ED11