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J-GLOBAL ID：201403066825175934

触媒、及び該触媒を用いたポリマーの製造方法

Inventor： 大久保 泰宏 ,  南部 宏暢 ,  福岡 淳 ,  原 賢二 ,  赤羽 紗以子
Applicant, Patent owner： 太陽化学株式会社 ,  国立大学法人北海道大学
Agent (1)： 小林 洋平
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010195364
Publication number (International publication number)：2012052012
Patent number：5633846
Application date： Sep. 01, 2010
Publication date： Mar. 15, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】細孔とこの細孔を形成する細孔壁とを備えたメソポーラスシリカにおいて、前記細孔壁の外表面は触媒反応を規制するために選択的に有機物によって修飾されている一方、前記細孔壁の内表面には選択的に触媒活性種が固定されている触媒であって、 当該触媒が、フェノール化合物の酸化重合反応に用いられるものであることを特徴とする触媒。

IPC (2)：

C08G 65/44 ( 200 6.01) ,  C01B 37/02 ( 200 6.01)

FI (2)：

C08G 65/44 ,  C01B 37/02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• NOx還元触媒、その製造方法、並びにその触媒の使用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-264565   Applicant：株式会社日立製作所, 国立大学法人北海道大学
• 触媒、およびポリマーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-136258   Applicant：財団法人理工学振興会
• 触媒、およびポリマーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-056373   Applicant：国立大学法人東京工業大学

Cited by examiner (1)

• NOx還元触媒、その製造方法、並びにその触媒の使用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-264565   Applicant：株式会社日立製作所, 国立大学法人北海道大学