絶縁層組成物及びこれを用いる絶縁層を含む基板並びに基板製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：加藤公延 , 福川晋矢
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013241778
Publication number (International publication number)：2014118563
Application date： Nov. 22, 2013
Publication date： Jun. 30, 2014
Summary：

【課題】絶縁特性及び機械的物性が優秀な酸化グラフェンを絶縁材料として使う場合、該酸化グラフェンの分散性の確保のために、酸化グラフェンに対して常用性が優秀な溶媒を特定化させることによって、従来技術の問題を解決した。【解決手段】絶縁層組成物、この絶縁層組成物を用いて形成された絶縁層パターンを含む印刷回路基板、及び安定的に分散した酸化グラフェンを含む絶縁層組成物を用いて、インクジェットプリンティング工法で絶縁層パターンを形成する。本発明の絶縁層組成物は、酸化グラフェン及びこれを含む絶縁材料と、溶媒極性指標が5.5以上の極性溶媒を含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

酸化グラフェン及びこれを含む絶縁材料と、溶媒極性指標が5.5以上の極性溶媒を含む絶縁層組成物。

IPC (12)：

C09D 5/25 , H05K 1/03 , B32B 7/02 , B32B 27/04 , C09D 7/12 , C09D 179/08 , C09D 185/00 , C09D 183/04 , C09D 163/00 , C08L 101/00 , C08K 3/04 , C01B 31/02

FI (13)：

C09D5/25 , H05K1/03 610R , B32B7/02 104 , B32B27/04 Z , C09D7/12 , C09D179/08 D , C09D179/08 Z , C09D185/00 , C09D183/04 , C09D163/00 , C08L101/00 , C08K3/04 , C01B31/02 101Z

F-Term (71)：

4F100AA19A , 4F100AD11A , 4F100AG00A , 4F100AH06A , 4F100AH08A , 4F100AK01A , 4F100AK01B , 4F100AK31A , 4F100AK47A , 4F100AK53A , 4F100AT00A , 4F100AT00B , 4F100BA01 , 4F100BA02 , 4F100DE01A , 4F100DG01A , 4F100DH01A , 4F100EH46 , 4F100GB43 , 4F100HB31 , 4F100JA06A , 4F100JA07A , 4F100JA20A , 4F100JB08A , 4F100JB13A , 4F100JG04A , 4F100JK01 , 4F100YY00A , 4G146AA01 , 4G146AA15 , 4G146AA28 , 4G146AB07 , 4G146AC02A , 4G146AC27A , 4G146AC27B , 4G146AD17 , 4G146AD19 , 4G146AD21 , 4G146AD28 , 4G146CB10 , 4G146CB17 , 4G146CB19 , 4G146CB35 , 4J002AA011 , 4J002AA021 , 4J002CD002 , 4J002CF041 , 4J002CL031 , 4J002CL081 , 4J002CM041 , 4J002DA026 , 4J002FD010 , 4J002FD206 , 4J002GF00 , 4J002GQ01 , 4J038DB061 , 4J038DB081 , 4J038DJ021 , 4J038DJ041 , 4J038FA091 , 4J038HA026 , 4J038HA036 , 4J038HA136 , 4J038HA486 , 4J038KA08 , 4J038KA19 , 4J038MA06 , 4J038MA10 , 4J038NA21 , 4J038PB09 , 4J038PC03

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