Pat
J-GLOBAL ID:201403072439824464
グラフェンを製造する方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
, 大貫 進介
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2014515286
Publication number (International publication number):2014516911
Application date: Jun. 13, 2012
Publication date: Jul. 17, 2014
Summary:
グラフェン形成のテンプレートとして、複数の金属粒子を提供し、炭素源を提供するステップ;グラフェン形成に適した条件下で、金属粒子と炭素源とを反応させるステップ;および金属粒子上にグラフェン粒子を形成するステップ;により、グラフェンを製造する方法。金属粒子上に形成されたグラフェン粒子は、金属粒子のサイズおよび形状に対応するサイズおよび形状を有する。
Claim (excerpt):
グラフェンを製造する方法であって、
グラフェン形成のテンプレートとして、複数の金属粒子を提供するステップと、
炭素源を提供するステップと、
グラフェン形成に適した条件下で、前記金属粒子と炭素源を反応させるステップと、
前記金属粒子上にグラフェン粒子を形成するステップと、
を有し、
前記金属粒子上に形成された前記グラフェン粒子は、前記金属粒子のサイズおよび形状に実質的に対応するサイズおよび形状を有することを特徴とする方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (23):
4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AD28
, 4G146AD37
, 4G146BA11
, 4G146BA49
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC09
, 4G146BC23
, 4G146BC33B
, 4G146BC42
, 4G146BC43
, 4G146BC44
, 4G146BC46
, 4G146CA02
, 4G146CA16
, 4G146CB29
, 4G169AA03
, 4G169BA06B
, 4G169BB04B
, 4G169BC67B
, 4G169CB81
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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グラフェンシェルの製造方法及びグラフェンシェル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-318431
Applicant:三星電子株式会社
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電極用白金クラスター及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-303041
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 国立大学法人筑波大学
-
グラフェン溶液
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2010-519490
Applicant:サントルナショナルドゥラルシェルシュスィヤンティフィック(セーエヌエルエス)
-
炭素粒子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-111315
Applicant:三菱化学株式会社, フロンティアカーボン株式会社
-
孤立カーボンナノチューブの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-000350
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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