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J-GLOBAL ID:201403078221704538

フォトニック結晶レーザ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012213645
Publication number (International publication number):2014067945
Application date: Sep. 27, 2012
Publication date: Apr. 17, 2014
Summary:
【課題】フォトニック結晶に対して垂直な方向への射出光の強度を従来のものよりも低減させ、レーザ発振に必要な閾値を十分に下げることが可能となるフォトニック結晶レーザを提供する。【解決手段】活性層103と、フォトニック結晶層を有し波長λで発振するフォトニック結晶レーザであって、フォトニック結晶層は、活性層に近い側に設けられた第1のフォトニック結晶層111と、第1のフォトニック結晶層よりも活性層から遠い側に設けられた第2のフォトニック結晶層112とを備え、フォトニック結晶層の実厚さとフォトニック結晶レーザが形成する導波モードの有効屈折率との積によって規定される光学的な厚みと波長λとが等しく、第2のフォトニック結晶層の平均屈折率が第1のフォトニック結晶層の平均屈折率よりも高く、第2のフォトニック結晶層の厚みが、フォトニック結晶層の厚みの半分以上に構成される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
活性層と、フォトニック結晶層を有し、波長λで発振するフォトニック結晶レーザであって、 前記フォトニック結晶層は、 前記活性層に近い側に設けられた第1のフォトニック結晶層と、 該第1のフォトニック結晶層よりも前記活性層から遠い側に設けられた第2のフォトニック結晶層とを備え、 前記フォトニック結晶層の実厚さと前記フォトニック結晶レーザが形成する導波モードの有効屈折率との積によって規定される光学的な厚みと、前記波長λとが等しく、 前記2のフォトニック結晶層の平均屈折率が、前記第1のフォトニック結晶層の平均屈折率よりも高く、 前記第2のフォトニック結晶層の厚みが、前記フォトニック結晶層の厚みの半分以上であることを特徴とするフォトニック結晶レーザ。
IPC (1):
H01S 5/18
FI (1):
H01S5/18
F-Term (11):
5F173AB52 ,  5F173AB90 ,  5F173AF24 ,  5F173AF33 ,  5F173AF40 ,  5F173AG17 ,  5F173AH22 ,  5F173AP05 ,  5F173AP33 ,  5F173AP47 ,  5F173AR23

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