Pat
J-GLOBAL ID:201403078981035202
細胞培養基材及びパターン化された培養細胞の培養方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
正林 真之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014048804
Publication number (International publication number):2014223057
Application date: Mar. 12, 2014
Publication date: Dec. 04, 2014
Summary:
【課題】細胞培養表面に対する位置選択的な物理的処理又は化学的処理を施すことなく製造でき、細胞培養表面の下層に設けられる下層基板が備える凹凸パターンの作用によって生じる細胞培養表面の力学的性質の位置特異性に基づいて、パターン化された培養細胞を培養できる細胞培養基材と、当該細胞培養基材を用いるパターン化された培養細胞の培養方法とを提供すること。【解決手段】表面に凹凸パターンを有する下層基板と、下層基板上に積層された、細胞培養表面を有する上層膜とを備え、上層膜が凹凸パターン中の凹部を覆っており、下層基板と上層膜とが凹凸パターン中の凸部のみで接している、細胞培養基材を用いる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
表面に凹凸パターンを有する下層基板と、前記下層基板上に積層された、細胞培養表面を有する上層膜とを備え、前記上層膜が前記凹凸パターン中の凹部を覆っており、前記下層基板と前記上層膜とが前記凹凸パターン中の凸部のみで接している、細胞培養基材。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (11):
4B029AA08
, 4B029BB11
, 4B029GA08
, 4B065AA90X
, 4B065AA91X
, 4B065BB25
, 4B065BB32
, 4B065BC03
, 4B065BC07
, 4B065CA44
, 4B065CA46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
細胞培養支持体および細胞培養法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-299647
Applicant:有限責任中間法人オンチップ・セロミクス・コンソーシアム
-
特開平2-117381
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
日本レオロジー学会第39年会講演予稿集, 2012, Vol.39, pp.9-10
-
Biophysical Journal, 2000, Vol.79, No.1, pp.144-152
-
Biomacromolecules, 2013, Vol.14, No.4, pp.1208-1213
Return to Previous Page