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J-GLOBAL ID：201403079872527959

生体用高濃度水素ガス供給装置

Inventor： 佐藤 文武 ,  黒川 亮介 ,  佐藤 文平 ,  瀬尾 知樹
Applicant, Patent owner： ミズ株式会社
Agent (1)： とこしえ特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013012881
Publication number (International publication number)：2014122148
Application date： Jan. 28, 2013
Publication date： Jul. 03, 2014
Summary：

【課題】健康上有益な水素ガスを医療の現場や家庭で安全に使用することができる生体用水素ガス供給装置を提供する。【解決手段】水素発生剤1、該水素発生剤を有する水素ガス発生器3、該水素発生剤と反応用水2の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器7または真空ポンプ8のうち少なくともいずれか一方を備え、前記水素ガス発生器は、その気相部4の一部あるいは全部が水素ガス透過膜5で覆われている特徴を備え、前記希釈用ガス供給器または真空ポンプから供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、1mL/分以上の通気量で、水素ガス濃度が0.1vol%以上18.3vol%未満の混合ガスを生体に供給し、前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から7cm離れた位置の水素ガス濃度を18.3vol%未満に維持する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水素発生剤、該水素発生剤を有する水素ガス発生器、および該水素発生剤と反応用水の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器または真空ポンプのうち少なくともいずれか一方を備え、 前記水素ガス発生器は、その気相部の一部あるいは全部が水素ガス透過膜で覆われている特徴を備え、 前記希釈用ガス供給器または真空ポンプを用いて供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、1mL/分以上の通気量で、水素ガス濃度が0.1vol%以上18.3vol%未満の混合ガスを、生体に供給することができる生体用水素ガス供給装置であって、 前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から7cm離れた位置の水素ガス濃度を18.3vol%未満に維持することを特徴とする生体用水素ガス供給装置。

IPC (4)：

C01B 3/00 ,  C01B 3/06 ,  C01B 3/08 ,  A61M 16/12

FI (4)：

C01B3/00 Z ,  C01B3/06 ,  C01B3/08 Z ,  A61M16/12

F-Term (1)：

4G140AB01