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J-GLOBAL ID：201403084059726409

光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法

Inventor： 梅川 秀喜 ,  佐藤 誠
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012213443
Publication number (International publication number)：2014065853
Application date： Sep. 27, 2012
Publication date： Apr. 17, 2014
Summary：

【課題】 塩素系ガスのエッチング耐性に優れ、生産性、及び長期間保存安定性に優れた光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。さらには、比較的低い圧力で金型を押し当てた場合でも、パターンの転写が容易にでき、且つ、該パターンの基材との密着性が良く、金型からの離型性が良い等、ナノインプリントパターン転写性が良好な光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。【解決手段】 光硬化性ナノインプリント用組成物は、(A)(メタ)アクリル基を有する有機珪素化合物、(B)ヘテロポリ酸、(C)(メタ)アクリル基を有する重合性単量体、(D)光重合開始剤を含んでなる。さらに、(E)有機珪素化合物、および/または(F)フッ素化有機シラン化合物を含んでもよい。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)

IPC (3)：

C08F 2/46 ,  C08F 230/08 ,  C08F 220/10

FI (3)：

C08F2/46 ,  C08F230/08 ,  C08F220/10

F-Term (19)：

4J011QA03 ,  4J011QA12 ,  4J011QA43 ,  4J011SA05 ,  4J011SA06 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J011WA07 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL66P ,  4J100BA02P ,  4J100BA71Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC48P ,  4J100CA04 ,  4J100FA27 ,  4J100JA46