光干渉断層装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人谷・阿部特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013003611
Publication number (International publication number)：2014134500
Application date： Jan. 11, 2013
Publication date： Jul. 24, 2014
Summary：

【課題】光ビームを水平・垂直方向に高速にスキャンし、2次元データ、さらには、3次元データの高速での収集を可能とする光干渉断層装置を提供する。【解決手段】低干渉光を出力する光源1と、低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタ3と、被検体に対して測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段4,8と、ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラー10と、参照光と反射光とがビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段11と、光検出手段で検出された光の干渉を解析して被検体の光断層画像を生成する信号処理装置12とを備え、平面走査する手段は、電気光学結晶4を用いた光ビーム偏向手段を有し、光の入射方向に垂直な面のデータを層ごとに取得することを特徴とする光干渉断層装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被検体に低干渉光を照射して得られる反射光を用いて該被検体の光断層画像を生成する光干渉断層装置であって、低干渉光を出力する光源と、前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタと、前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段と、前記ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラーと、前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段と、前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置とを備え、前記平面走査する手段は、電気光学結晶を用いた光ビーム偏向手段を有し、光の入射方向に垂直な面のデータを層ごとに取得することを特徴とする光干渉断層装置。

IPC (1)：

G01N 21/17

FI (1)：

G01N21/17 620

F-Term (13)：

2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059FF02 , 2G059GG02 , 2G059HH01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ15 , 2G059JJ18 , 2G059JJ22 , 2G059KK01 , 2G059PP04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光干渉断層装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-228783 Applicant：株式会社東芝, 東芝メディカルシステムズ株式会社
光断層画像取得装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-334096 Applicant：富士写真フイルム株式会社
電気光学素子及び走査型光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-045120 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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