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J-GLOBAL ID：201403099749923077

光学異性体分離用充填剤

Inventor： 岡本 佳男 ,  山本 智代 ,  井改 知幸 ,  上垣外 正己
Applicant, Patent owner： 国立大学法人名古屋大学 ,  株式会社ダイセル
Agent (3)： 川口 嘉之 ,  佐貫 伸一 ,  丹羽 武司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008514474
Patent number：5531287
Application date： May. 02, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】 水酸基又はアミノ基を有する高分子化合物の水酸基又はアミノ基の一部が下記一般式(I)で表された化合物で修飾された高分子化合物誘導体を製造する工程と、前記高分子化合物誘導体を担体に化学結合により担持する工程とを含み、 前記高分子化合物誘導体を製造する工程が、 溶解された水酸基又はアミノ基を有する高分子化合物の水酸基又はアミノ基を、前記一般式(I)で表された化合物以外の化合物で修飾する第1修飾工程と、 前記第1修飾工程において、修飾されていない前記高分子化合物の水酸基又はアミノ基を前記一般式(I)で表された化合物で修飾する第2修飾工程とを含み、 前記高分子化合物誘導体を担体に化学結合により担持する工程が酸性条件下で実施され、 前記一般式(I)で表された化合物の、水酸基又はアミノ基を有する高分子化合物の水酸基又はアミノ基への導入率が1.0〜35%である、ことを特徴とする、 光学異性体分離用充填剤の製造方法。 (式中、Aは水酸基又はアミノ基と反応する反応性基であり、クロロカルボニル基、カルボキシル基、イソシアナート基又はチオシアナート基を示し、Xは炭素数1〜18の分岐を有しても良いアルキレン基または置換基を有しても良いアリーレン基を示し、Yはシラノール基と反応してシロキサン結合を形成する反応性基を示し、Rは、炭素数1〜18の分岐を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良いアリール基を示し、nは1〜3の整数を示す。)

IPC (2)：

G01N 30/88 ( 200 6.01) ,  B01J 20/24 ( 200 6.01)

FI (2)：

G01N 30/88 201 W ,  B01J 20/24 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭60-196663
  

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-196663
  
• 特開昭60-196663
  
• 特開昭60-196663