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J-GLOBAL ID：201502213251667571   Reference number：15A1149077

Low and Medium Vacuum: Fundamentals and Applications

低真空・中真空技術の基礎と応用

Author (1)： FUKUDA TSUNEO (大阪市立大学大学院工学研究科)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 58  Issue： 9  Page： 325-329 (J-STAGE)  Publication year： 2015 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： medium vacuum ,  *vacuum ,  slip flow ,  surface of wall ,  molecular flow ,  molecule ,  viscous flow ,  vacuum equipment ,  *vacuum drying ,  *vacuum technology
Semi thesaurus term： gaseous molecule ,  低真空 ,  排気曲線

JST classification (1)： Vacuum production and techniques  (BA02020L)

Reference (11)：

• 1) ここではR. G. Livesey: in Fundations of Vacuum Science and Technology, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.1の分類に従った.
• 2) The Japan Society of Mechanical Engineers, ed.: JSME Mechanical Engineers' Handbook α4 Fluid Mechanics (Maruzen, Tokyo, 2006).
• 3) E. H. Kennard: Kinetic Theory of Gases (McGraw-Hill Book Company, Inc., New York, 1938).
• 4) R. G. Livesey: in Fundations of Vacuum Science and Technology, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.4.
• 5) M. Knudsen: Ann. Physik, 28 (1909) 75.

Terms in the title (4)： 真空 ,  中真空 ,  基礎 ,  応用