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J-GLOBAL ID：201502233598621938   Reference number：15A0601358

シリコンの結晶異方性ウエットエッチングによる円錐形状の表面微細構造の作製

Author (6)： ISHII TOMOYUKI (九州工大) ,  SHIMIZU SEIGI (九州工大) ,  MURAKAMI SUNAO (九州工大) ,  ITO TAKAHIRO (九州工大) ,  TASHIRO YASUNORI (三島光産) ,  ONIKI TAKAHIRO (三島光産)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 2015  Issue： 春季(CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.M09  Publication year： Mar. 01, 2015 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,  *wet etching ,  mold and pattern ,  *wafer ,  surface quality ,  surface structure ,  pattern formation ,  patterning (transcription) ,  *surface processing ,  circular cone ,  monocrystal silicon ,  Si wafer ,  structure
Semi thesaurus term： silicon substrate ,  photo mask pattern ,  anisotropic etching ,  cone

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Tetramethylammonium hydroxide

Terms in the title (7)： シリコン ,  結晶 ,  異方性 ,  エッチング ,  円錐形 ,  表面微細構造 ,  作製