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J-GLOBAL ID：201502271363701712   Reference number：15A0165506

A simple method for forming compositionally graded In_xGb_1-xAs_1-ySb_y base of double-heterojunction bipolar transistors modulating CBr₄-doping-precursor flow in metalorganic chemical vapor deposition

有機金属化学気相成長法でCBr₄ドーピング前駆体の流れを調節する2重ヘテロ接合バイポーラトランジスタの組成傾斜In_xGa_1-xAs_1-ySb_y系を形成するための簡単な方法

Author (10)： HOSHI Takuya (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  HOSHI Takuya (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  KASHIO Norihide (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  SUGIYAMA Hiroki (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  YOKOYAMA Haruki (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  KURISHIMA Kenji (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  IDA Minoru (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  MATSUZAKI Hideaki (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  GOTOH Hideki (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  GOTOH Hideki (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 7  Issue： 11  Page： 114102.1-114102.4  Publication year： Nov. 2014 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *MOCVD ,  *doping ,  *bipolar transistor ,  *chemical composition ,  *functional gradient material ,  heterojunction ,  indium compound ,  *gallium compound ,  *arsenide ,  antimonide ,  compound semiconductor ,  semiconductor thin film ,  aliphatic bromine compound ,  cutoff frequency ,  *frequency(Hz)
Semi thesaurus term： 2重ヘテロ接合 ,  *oscillation frequency

JST classification (2)： Transistors  (NC03070N) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： Carbon tetrabromide

Reference (19)：

• M. Urteaga, R. Pierson, P. Rowell, V. Jain, E. Lobisser, and M. J. W. Rodwell, Proc. DRC, 2011, p. 281.
• R. Lai, X. B. Mei, W. R. Deal, W. Yoshida, Y. M. Kim, P. H. Liu, J. Lee, J. Uyeda, V. Radisic, M. Lange, T. Gaier, L. Samoska, and A. Fung, IEDM Tech. Dig., 2007, p. 609.
• W. Liu, Handbook of III-V Heterojunction Bipolar Transistors (Wiley, New York, 1998) p. 188.
• W. Snodgrass, W. Hafez, N. Harif, and M. Feng, IEDM Tech. Dig., 2006, p. 1.
• H. G. Liu, O. Ostinelli, Y. Zeng, and C. R. Bolognesi, IEDM Tech. Dig., 2007, p. 667.

Terms in the title (7)： 有機金属化学気相成長法 ,  ドーピング ,  前駆体 ,  流れ ,  調節 ,  ヘテロ接合バイポーラトランジスタ ,  組成傾斜