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J-GLOBAL ID：201502297635794439   Reference number：15A0427057

Effect of Post-Annealing on Microstructure of ZnO Thin Films Prepared Using Atmospheric Pressure Cold Plasma

大気圧低温プラズマを用いて調整したZnO薄膜の微細構造に対するポストアニーリングの効果

Author (6)： DU Jinlong (Kagawa Univ.) ,  HASEGAWA Sota (Kagawa Univ.) ,  YUJI Toshifumi (Univ. Miyazaki) ,  SHIKAMA Tomokazu (Kagawa National coll. Technol.) ,  YAMAGUCHI Kenzo (Kagawa Univ.) ,  SUZAKI Yoshifumi (Kagawa Univ.)
Material： プラズマ応用と複合機能材料  (Conference Journal of the IAPS Meeting)
Volume： 24  Page： 72  Publication year： Mar. 01, 2015 
JST Material Number： L6242A  ISSN： 1340-9557  CODEN： POFZFU  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *zinc oxide ,  *plasma treatment ,  *atmospheric plasma ,  micro structure ,  *annealing(heat treatment) ,  transparent conducting thin films
Semi thesaurus term： *post annealing ,  low temperature plasma

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Plasma in general  (BJ02010B) ,  Heat treatment technology  (WC03020T)

Terms in the title (4)： 大気圧低温プラズマ ,  ZnO薄膜 ,  微細構造 ,  ポストアニーリング