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J-GLOBAL ID:201503000910522292

アセタール化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森田 順之
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011251932
Publication number (International publication number):2013107831
Patent number:5752013
Application date: Nov. 17, 2011
Publication date: Jun. 06, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】式(1)で表されるカルボニル基を有する有機化合物(以下、「カルボニル化合物」という。)と式(2)で表される化合物、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびグリセリンから選ばれるヒドロキシ基を含む有機化合物(以下、「ヒドロキシ化合物」という。)とを含む混合液(以下、「混合液」という。)からアセタール化合物を製造する方法であって、「混合液」を、「ヒドロキシ化合物」の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させ、「カルボニル化合物」中のカルボニル基と「ヒドロキシ化合物」中のヒドロキシ基の反応でアセタール基を生成させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。 (式(1)中、R1およびR2は、それぞれ個別に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基(シクロアルキル基を含む)、または炭素数6〜10のアリール基を示す。ただし、R1とR2が同時に水素原子とはならない。) (式(2)中、R3は、炭素数1〜20のアルキル基(シクロアルキル基を含む)または炭素数6〜10のアリール基を示す。)
IPC (5):
C07C 41/56 ( 200 6.01) ,  C07C 43/307 ( 200 6.01) ,  C07C 43/303 ( 200 6.01) ,  C07C 43/315 ( 200 6.01) ,  C07D 317/12 ( 200 6.01)
FI (5):
C07C 41/56 ,  C07C 43/307 ,  C07C 43/303 ,  C07C 43/315 ,  C07D 317/12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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