Pat
J-GLOBAL ID:201503001647671462

高酸化還元電位型ラッカーゼの生産方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 船越 巧子 ,  金谷 宥
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009295057
Publication number (International publication number):2011130732
Patent number:5800457
Application date: Dec. 25, 2009
Publication date: Jul. 07, 2011
Claim (excerpt):
【請求項1】 オツネンタケモドキIBRC05015株(寄託番号 NITE P-822)から高酸化還元電位型ラッカーゼを分泌生産する方法であって、銅添加培地を使用することを特徴とする、大量かつ高純度の高酸化還元電位型ラッカーゼを分泌生産する方法。
IPC (2):
C12N 9/02 ( 200 6.01) ,  C12N 1/14 ( 200 6.01)
FI (2):
C12N 9/02 ZNA ,  C12N 1/14 F
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page