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J-GLOBAL ID:201503001647671462
高酸化還元電位型ラッカーゼの生産方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (2):
船越 巧子
, 金谷 宥
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009295057
Publication number (International publication number):2011130732
Patent number:5800457
Application date: Dec. 25, 2009
Publication date: Jul. 07, 2011
Claim (excerpt):
【請求項1】 オツネンタケモドキIBRC05015株(寄託番号 NITE P-822)から高酸化還元電位型ラッカーゼを分泌生産する方法であって、銅添加培地を使用することを特徴とする、大量かつ高純度の高酸化還元電位型ラッカーゼを分泌生産する方法。
IPC (2):
C12N 9/02 ( 200 6.01)
, C12N 1/14 ( 200 6.01)
FI (2):
C12N 9/02 ZNA
, C12N 1/14 F
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent: