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J-GLOBAL ID：201503005287500798

スピンウェーハ検査システム

Inventor： ペトレンコ・アレクセイ ,  ウォルタース・クリスチャン ,  カイ・チョンピン ,  ロマノフスキー・アナトリー ,  ホワイトサイド・ブレット
Applicant, Patent owner： ケーエルエー-テンカー・コーポレーション
Agent (1)： 特許業務法人明成国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015032427
Publication number (International publication number)：2015111148
Application date： Feb. 23, 2015
Publication date： Jun. 18, 2015
Summary：

【課題】スピンウェーハ検査システムのための、高周波動的合焦傾斜レーザー照射を生成するための方法および装置を提供する。【解決手段】焦点の移動は、ビーム方向入射角度を変化させて焦点スポットをウェーハ表面上に置くことにより、行われる。単一のモジュールに集約された、自動的ビーム形成(すなわちスポットサイズ)および指向を実施するためのシステムおよび方法が本明細書において開示される。モニタからのフィードバックを用いて、修正を実施するために十分な解像度を有するビーム位置/サイズ/形状および角度を計測するための方法システムも開示される。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

ウェーハ表面を検査するスピンウェーハ検査システムであって、高周波オートフォーカス機構を備えるスピンウェーハ検査システム。

IPC (5)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/84 ,  G02B 26/08 ,  H01L 21/66

FI (5)：

G01N21/956 A ,  G01B11/00 H ,  G01N21/84 E ,  G02B26/08 E ,  H01L21/66 J

F-Term (54)：

2F065AA03 ,  2F065AA19 ,  2F065AA26 ,  2F065AA31 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH18 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ22 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065LL61 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051BC04 ,  2G051BC10 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC11 ,  2H141MA12 ,  2H141MB23 ,  2H141MC09 ,  2H141ME09 ,  2H141ME24 ,  2H141ME25 ,  2H141MG09 ,  2H141MZ13 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106DB11 ,  4M106DB30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-238445