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J-GLOBAL ID:201503005814529610

炭酸泉生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 嘉彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014090371
Publication number (International publication number):2015208700
Application date: Apr. 24, 2014
Publication date: Nov. 24, 2015
Summary:
【課題】電子機器を使わずに湯水通路への通水の入り切りに連動して炭酸混合器への炭酸ガスの供給を入り切りする炭酸泉生成装置の提供。【解決手段】湯水流入口と炭酸ガス流入口と前記二つの流入口に連通する湯水炭酸ガス混合室と、湯水炭酸ガス混合室に連通し炭酸ガス気泡が混入した湯水を溶解させる小径流路集合体と、小径流路集合体に連通する炭酸泉流出口とを有する炭酸混合器2と、炭酸混合器2が途上に配設された湯水通路5と、ダイヤフラムとダイヤフラムの一方の端面に炭酸混合器2よりも上流側の湯水通路5内の湯水一次圧を印加する高圧側感圧室と、ダイヤフラムの他方の端面に炭酸混合器2よりも下流側の湯水通路5内の湯水二次圧を印加する低圧側感圧室と、ダイヤフラムを高圧側感圧室側へ付勢するバネと、ダイヤフラムに係合しダイヤフラムに連動して炭酸ガス通路を開閉する弁体とを有する炭酸ガス供給弁3とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
湯水流入口と炭酸ガス流入口と前記二つの流入口に連通する湯水炭酸ガス混合室と、湯水炭酸ガス混合室に連通し炭酸ガス気泡が混入した湯水を通水し炭酸ガス気泡と湯水とを攪拌混合して炭酸ガスを湯水に溶解させる小径流路集合体と、小径流路集合体に連通する炭酸泉流出口とを有する炭酸混合器と、炭酸混合器が途上に配設された湯水通路と、ダイヤフラムとダイヤフラムの一方の端面に炭酸混合器よりも上流側の湯水通路内の湯水一次圧を印加する高圧側感圧室と、ダイヤフラムの他方の端面に炭酸混合器よりも下流側の湯水通路内の湯水二次圧を印加する低圧側感圧室と、ダイヤフラムを高圧側感圧室側へ付勢するバネと、炭酸ガス供給源に連通する炭酸ガス流入口と炭酸混合器の炭酸ガス流入口に連通する炭酸ガス流出口と両者を接続する炭酸ガス通路と、ダイヤフラムに係合しダイヤフラムに連動して炭酸ガス通路を開閉する弁体とを有する炭酸ガス供給弁とを備えることを特徴とする炭酸泉生成装置。
IPC (5):
B01F 1/00 ,  A61H 33/02 ,  B01F 15/04 ,  B01F 5/00 ,  B01F 3/04
FI (5):
B01F1/00 B ,  A61H33/02 A ,  B01F15/04 B ,  B01F5/00 D ,  B01F3/04 Z
F-Term (14):
4C094DD06 ,  4C094DD14 ,  4C094GG03 ,  4G035AA08 ,  4G035AB15 ,  4G035AC01 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13 ,  4G037AA01 ,  4G037AA02 ,  4G037BA03 ,  4G037BB07 ,  4G037BD01 ,  4G037EA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開昭56-076771
  • 特開昭58-139727
  • ガス吸収装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-323402   Applicant:日立造船株式会社

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