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J-GLOBAL ID：201503007740422756

細胞の長期還流培養のための方法及び装置

Inventor： 渋谷 望 ,  日下 孝司 ,  松下 琢
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Agent (3)： 田中 玲子 ,  松任谷 優子 ,  梅田 慎介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014109732
Publication number (International publication number)：2015223111
Application date： May. 28, 2014
Publication date： Dec. 14, 2015
Summary：

【課題】高密度化した細胞を、機能を維持したまま、長期に維持培養するための技術の提供。【解決手段】培地供給用及びガス供給用の中空糸膜と、該中空糸膜外表面上及び/又は該中空糸膜間に配設された繊維成形体からなる細胞培養足場材料とを培養空間内に備えた細胞培養用モジュールを用いる、細胞の長期還流培養方法であって、培地供給用中空糸膜により培地を下記式で算出される供給係数2〜10で前記培養空間内に循環供給し、ガス供給用中空糸膜によりガスを供給係数250〜17,000で前記培養空間内に供給することを特徴とする方法を提供する。 供給係数=培養空間容積(ml)/培地又はガスの供給速度(ml/min)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

培地供給用及びガス供給用の中空糸膜と、該中空糸膜外表面上及び/又は該中空糸膜間に配設された繊維成形体からなる細胞培養足場材料とを培養空間内に備えた細胞培養用モジュールを用いる、細胞の長期還流培養方法であって、 培地供給用中空糸膜により培地を下記式で算出される供給係数2〜10で前記培養空間内に循環供給する、方法。 供給係数=培地又はガスの供給速度(ml/min)/培養空間容積(ml)

IPC (3)：

C12N 5/071 ,  C12M 3/00 ,  C12N 1/00

FI (3)：

C12N5/00 202A ,  C12M3/00 A ,  C12N1/00 A

F-Term (9)：

4B029AA02 ,  4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GA02 ,  4B065AA90X ,  4B065BC22 ,  4B065BC41 ,  4B065CA46