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J-GLOBAL ID：201503007996864942

光学積層体の製造方法

Inventor： 國方 智 ,  山本 佳史 ,  山崎 達也 ,  出▲崎▼ 忍
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Agent (1)： 籾井 孝文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013266473
Publication number (International publication number)：2015120313
Application date： Dec. 25, 2013
Publication date： Jul. 02, 2015
Summary：

【課題】シワのない、外観に優れた光学積層体の製造方法を提供する。【解決手段】樹脂基材11と樹脂基材の片側に塗布形成された第1の光学機能層12とを有する積層体10を作製する工程と;積層体の第1の光学機能層に光学機能フィルム21を積層して第2の光学機能層を形成する工程とを含む光学積層体の製造方法。積層体及び光学機能フィルムの少なくとも一方にナーリングが形成された状態で、積層体と光学機能フィルムとを積層する製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

樹脂基材と該樹脂基材の片側に塗布形成された第1の光学機能層とを有する積層体を作製する工程と、 該積層体の第1の光学機能層に光学機能フィルムを積層して第2の光学機能層を形成する工程と、を含み、 該積層体および該光学機能フィルムの少なくとも一方にナーリングが形成された状態で、該積層体と該光学機能フィルムとを積層する、 光学積層体の製造方法。

IPC (3)：

B32B 27/30 ,  G02B 5/30 ,  B32B 7/02

FI (4)：

B32B27/30 A ,  G02B5/30 ,  B32B27/30 102 ,  B32B7/02 103

F-Term (26)：

2H149AA02 ,  2H149AB18 ,  2H149BB24 ,  2H149DA02 ,  2H149DB22 ,  2H149EA05 ,  2H149EA12 ,  2H149FA03W ,  2H149FA08X ,  2H149FD47 ,  4F100AK21B ,  4F100AK24C ,  4F100AK41A ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100CB04 ,  4F100DB02 ,  4F100EC18C ,  4F100EH01C ,  4F100EH46B ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100GB48 ,  4F100JN10 ,  4F100JN30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 反射防止フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-064133   Applicant：コニカミノルタオプト株式会社