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J-GLOBAL ID：201503008458398407

不均質材料のシミュレーションモデルの作成方法、不均質材料のシミュレーション方法、及びプログラム

Inventor：
小石 正隆

About 小石 正隆


Applicant, Patent owner：
横浜ゴム株式会社

About 横浜ゴム株式会社


Agent (1)： グローバル・アイピー東京特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014038903
Publication number (International publication number)：2015162221
Application date： Feb. 28, 2014
Publication date： Sep. 07, 2015
Summary：
【課題】不均質材料のモルフォロジーの、不均質材料の力学特性への寄与を分析することができる不均質材料のシミュレーションモデルの作成方法、不均質材料のシミュレーション方法、及びプログラムを提供する。【解決手段】シミュレーションモデルを作成するとき、不均質材料のモデル化領域内の、第2の材料相をモデル化した粒子モデルを定める属性値を定める。この後、前記モデル化領域内に領域を定めて母相のモデルを作成する。さらに、2つ以上の粒子モデルを順次前記モデル化領域に発生させるとき、すでに配置した粒子モデルとの間の相対位置を定める制御パラメータにより粒子モデルの発生位置を制御して第2の材料相のモデルを作成する。作成した母相のモデル及び第2の材料相のモデルに材料パラメータを付与して、コンピュータで演算可能な不均質材料のシミュレーションモデルを作成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
第1の材料相と第2の材料相を少なくとも含む不均質材料のシミュレーションモデルを作成する方法であって、 (a)前記第1の材料相を母相として、不均質材料のモデル化領域内に予め領域を定めた母相のモデルを作成するステップと、 (b)粒子モデルを順次前記モデル化領域内に分散して発生させて、前記第2の材料相のモデルを作成するステップであって、粒子モデルを発生させるとき、すでに配置した粒子モデルとの間の相対位置を定める制御パラメータにより粒子モデルの発生位置を制御するステップと、 (c)前記母相のモデル及び前記第2の材料相のモデルに材料パラメータを付与して、コンピュータで演算可能な不均質材料のシミュレーションモデルを作成するステップと、 を含む、ことを特徴とする不均質材料のシミュレーションモデルの作成方法。
IPC (1)：
G06F 17/50
FI (2)：
G06F17/50 612A ,  G06F17/50 638
F-Term (2)：
5B046AA04 ,  5B046JA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (8)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 計算力学ハンドブック, 20070525, 初版, pp.477-479
Cited by examiner (1)
  • 計算力学ハンドブック, 20070525, 初版, pp.477-479

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