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J-GLOBAL ID：201503009461390626

水素を生成するための方法、およびその方法に用いられる水素生成装置

Inventor： 藏渕 孝浩 ,  野村 幸生 ,  羽藤 一仁 ,  田村 聡 ,  菊地 諒介
Applicant, Patent owner： パナソニックIPマネジメント株式会社
Agent (3)： 藤井 兼太郎 ,  鎌田 健司 ,  前田 浩夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014087925
Publication number (International publication number)：2015206085
Application date： Apr. 22, 2014
Publication date： Nov. 19, 2015
Summary：

【課題】水素生成の効率および水素の純度を向上する水素を生成するための方法、およびその方法に用いられる水素生成装置を提供する。【解決手段】本発明では、第1溶存気体除去部(15a)が設けられる。まず、第1溶存気体除去部(15a)において、液体(9)に含有されている溶存気体を液体(9)から除去する。次いで、第1溶存気体除去部(15a)において溶存気体を除去された液体(9)を筺体(1)の内部に供給する。液体(9)に含有されるプロトンをカソード(7)上で還元して水素を生成させる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水素を生成するための方法であって、以下の工程を具備する:

IPC (5)：

C25B 9/00 ,  C01B 3/04 ,  C25B 1/04 ,  C25B 15/08 ,  B01D 19/00

FI (5)：

C25B9/00 A ,  C01B3/04 A ,  C25B1/04 ,  C25B15/08 302 ,  B01D19/00 101

F-Term (26)：

4D011AA16 ,  4D011AC08 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC01 ,  4K021BC03 ,  4K021BC04 ,  4K021BC08 ,  4K021CA01 ,  4K021CA05 ,  4K021CA08 ,  4K021CA09 ,  4K021CA10 ,  4K021CA11 ,  4K021DB05 ,  4K021DB18 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC03 ,  5H127AB22 ,  5H127BA02 ,  5H127BA14 ,  5H127BA22 ,  5H127BB02 ,  5H127BB09 ,  5H127BB10